关于 GKC
GKC成立以来，即致力于半导体及电子业湿式机台的设计和制造，提供各式单晶圆（Single Wafer）制程设备和湿式工作台（Wet Bench），并提供客制化服务。
产品 & 服务
GKC的产品网涵盖半导体湿制程设备，包括晶圆清洗机、溶剂去光阻机、Metal lift-off去光阻机、PCBA及SMT之各式清洗机、旋涂上光阻机、超音波光阻喷涂机、助焊剂清洗机、显影机及化学蚀刻机等。
全球据点
GKC在深圳、苏州、北京、新加坡、吉安、香港等地链结有合作的半导体设备服务机构，目标是为客户提供更及时、更全面、更优质的服务，协助客户共同建立高水准的半导体湿制程工艺。
GKC Wafer Cleaning Machine Demonstration Video
GKC specializes in semiconductor wet process equipment, and has launched a variety of equipment such as cleaning machines, photoresist removal machines and ultrasonic photoresist coating machines, and provides customized services
积凯科技 晶圆清洗机展示短片
积凯科技股份有限公司专研半导体湿制程设备，推出清洗机、去光阻机及超音波上光阻机等多款设备，并提供客制化服务。
推荐产品
专研半导体湿制程设备，提供客制化服务
在线喷淋清洗机
在线通过式清洗设备，适用于半导体封装产品以及PCBA组装件的助焊剂清洗。
设备具有多种选项，可满足客制化的需要。
设备具有多种选项，可满足客制化的需要。
半自动复合式光阻剥离机
系统分为槽式制程区及旋转腔体高压制程区
可实施去光阻，及光罩清洗制程
可实施去光阻，及光罩清洗制程
湿式化学工作台
系统实施湿式制程，配置蚀刻槽、QDR槽、剥离槽等
各槽制程系由可程序配方（Recipe）控制
各槽制程系由可程序配方（Recipe）控制
GKC 最新资讯
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